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电子束热蒸发非晶硅薄膜红外光学特性
引用本文:潘永强,黄国俊. 电子束热蒸发非晶硅薄膜红外光学特性[J]. 红外与激光工程, 2011, 40(11): 2233-2237
作者姓名:潘永强  黄国俊
作者单位:西安工业大学光电工程学院,陕西西安,710032
基金项目:陕西省教育厅专项科研计划项目
摘    要:采用Ar+离子束辅助电子束热蒸发技术制备非晶硅(a-Si)薄膜,利用正交实验研究了薄膜红外光学常数与工艺参数之间的关系.采用椭偏仪和分光光度计分析了薄膜沉积速率、基底温度和工作真空度对非晶硅薄膜的折射率和消光系数的影响.实验结果表明:影响a-Si薄膜光学特性的主要因素是沉积速率和基底温度,工作真空度的影响最小.随着沉积...

关 键 词:非晶硅薄膜  电子束蒸发  红外光学特性

Infrared optical properties of amorphous silicon films deposited by electron beam evaporation
Pan Yongqiang,Huang Guojun. Infrared optical properties of amorphous silicon films deposited by electron beam evaporation[J]. Infrared and Laser Engineering, 2011, 40(11): 2233-2237
Authors:Pan Yongqiang  Huang Guojun
Abstract:
Keywords:
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