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一种真空度可调的圆片级封装技术
引用本文:罗蓉.一种真空度可调的圆片级封装技术[J].微纳电子技术,2013(8):534-537.
作者姓名:罗蓉
作者单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
摘    要:提出了一种MEMS器件的圆片级封装技术。通过金硅键合和DRIE通孔制备等关键工艺技术,可以实现真空度从102 Pa到2个大气压可调的圆片级封装。作为工艺验证,成功实现了圆片级真空封装MEMS陀螺仪的样品制备。对封装后的陀螺仪样品进行了剪切力和品质因数Q值测试,剪切力测试结果证明封装样品键合强度达到5 kg以上,圆片级真空封装后陀螺的品质因数Q值约为75 000,对该陀螺的品质因数进行了历时1年的跟踪测试,在此期间品质因数Q的最大变化量小于7‰,品质因数测试结果表明封装具有较好的真空特性。

关 键 词:微电子机械系统(MEMS)  圆片级封装(WLP)  密封  深反应离子刻蚀(DRIE)  金硅共晶键合
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