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| TC离子渗氮 | |
| 引用本文： | 何敬安,赵世鑫.TC离子渗氮[J].热处理技术与装备,2003,24(3):36-39. |
| 作者姓名： | 何敬安 赵世鑫 |
| 作者单位： | 重庆市綦江齿轮厂,重庆,631421 |
| 摘 要： | 对渗氮等离子体活性粒子的研究结果 ,提出了与过去完全不同的观点 ,即在渗氮过程中并不是离子 ,而是等离子体中的中性粒子撞击金属表面。正是这些中性粒子对渗氮起作用。因此不需要在被处理的工件上直接生成等离子体。这一重大发现就是“网栅”(TC)或活性屏离子渗氮的基础。这种方法比传统的加工工艺有许多优点。1 工业化学热处理和离子渗氮化学热处理在许多表面加工技术中起着重要的作用。工业上对黑色金属材料 ,要求具有很高的抗疲劳性、承载力和耐磨性。正确设计硬化表层和支承硬化层的深扩散区 ,以及选择适当的基质材料 ,在广大工业部… |
TC离子渗氮 |
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