| 渗硅TiAl基合金高温循环氧化动力学分析 |
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| 引用本文： | 彭彩霞,马晓霞,梁伟,赵兴国,候增寿. 渗硅TiAl基合金高温循环氧化动力学分析[J]. 金属热处理, 2007, 32(8): 59-62 |
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| 作者姓名： | 彭彩霞 马晓霞 梁伟 赵兴国 候增寿 |
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| 作者单位： | 太原理工大学,材料科学与工程学院,山西,太原,030024;太原理工大学,材料科学与工程学院,山西,太原,030024;太原理工大学,材料科学与工程学院,山西,太原,030024;太原理工大学,材料科学与工程学院,山西,太原,030024;太原理工大学,材料科学与工程学院,山西,太原,030024 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 , 高等学校博士学科点专项科研项目 , 山西省自然科学基金 |
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| 摘 要： | 用最小二乘法对渗硅TiAl基合金在900、1000、1100和1200 ℃的循环氧化数据进行了拟合.结果表明:渗硅TiAl基合金900 ℃氧化在所测试的118 h内氧化动力学曲线呈抛物线规律;1000 ℃氧化在0～50 h之间呈抛物线型规律,50～118 h之间呈直线型氧化规律;1100 ℃氧化在0～4 h之间呈抛物线型规律,4～8 h之间呈直线型氧化规律,8～16 h呈二次型加速氧化规律,16 h出现剥落现象;1200 ℃循环氧化在0～4 h呈二次型加速氧化规律,4 h后出现剥落现象.相应的氧化速率常数为:900 ℃时Kp≈4.924×10-5 mg2cm-4h-1,1000 ℃时Kp≈7.778×10-5 mg2cm-4h-1,1100 ℃时Kp≈9.392×10-2 mg2cm-4h-1.并对渗硅层在温度超过1000 ℃后的氧化机制进行了初步探讨.
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| 关 键 词： | TiAl基合金 抗氧化 表面处理 化学热处理 氧化动力学 |
| 文章编号： | 0254-6051（2007）08-0059-04 |
| 修稿时间： | 2007-03-12 |
Analysis on High Temperature Cyclic Oxidation Kinetics of Siliconized TiAl-Based Alloy |
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| PENG Cai-xia,MA Xiao-xia,LIANG Wei,ZHAO Xing-guo,HOU Zeng-shou. Analysis on High Temperature Cyclic Oxidation Kinetics of Siliconized TiAl-Based Alloy[J]. Heat Treatment of Metals, 2007, 32(8): 59-62 |
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| Authors: | PENG Cai-xia MA Xiao-xia LIANG Wei ZHAO Xing-guo HOU Zeng-shou |
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| Affiliation: | School of Materials Science and Engineering, Taiyuan University of Technology, Taiyuan Shanxi 030024, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiAl-based alloy resistance to oxidation surface treatment chemical heat treatment oxidation kinetic |
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