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| 激光光刻设备 | |
| 引用本文： | 木兰.激光光刻设备[J].光电子技术,1992(4). |
| 作者姓名： | 木兰 |
| 摘 要： | 瑞士 Lasarray 公司生产的 DWL2.0是4束、20MHz 激光光刻系统。最小光点尺寸<500nm(在标准线/掩模板的自由度为10nm时),在晶片自由度(DOF)为1700nm 时光点尺寸<800nm。最大基片尺寸为200×200mm,即大型平板应用的选择段为800×800mm。已 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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