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| 集成电路关键面积研究方法的发展与挑战 | |
| 引用本文： | 张国霞,马佩军,张旭,郝跃. 集成电路关键面积研究方法的发展与挑战[J]. 微电子学, 2009, 39(5) |
| 作者姓名： | 张国霞 马佩军 张旭 郝跃 |
| 作者单位： | 西安电子科技大学,微电子学院,西安,710071 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目，陕西省自然科学基础研究项目 |
| 摘 要： | 研究方法进行了综述与分析,讨论了Monte Carlo方法、多边形算子方法、Voronoi图方法的优缺点;对亚波长光刻阶段关键面积研究面临的挑战进行了分析与探讨. |
| 关 键 词： | 集成电路 关键面积 关键面积提取 深亚微米光刻 |
Development of Critical Area Research Method for Integrated Circuits and Its Challenges |
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