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大尺寸Bi_(12)S_iO_(20)单晶生长的研究
引用本文:张尚安,魏世道,韩奇阳,胡卫东.大尺寸Bi_(12)S_iO_(20)单晶生长的研究[J].量子电子学报,1994(1).
作者姓名:张尚安  魏世道  韩奇阳  胡卫东
作者单位:中科院安徽光学精密机械研究所
摘    要:本文介绍了BSO单晶的若干主要性能。报导了用电阻加热提拉法,从φ80×60mm铂金坩埚中生长出φ40×60mm重达800克左右的优质BSO大单晶。研究并确定了生长大尺寸BSO晶体的工艺条件,并对晶体中若干主要缺陷进行了观察分析,讨论了它们与生长工艺条件的关系,以及提高晶体质量的主要途经。

关 键 词:晶体生长,提拉法,温度梯度晶体缺陷

Crystal Growth and Optical Properties of Large Size Single Crystals of Bismuth Silicon Oxide
Zhang Shangan, Wei Shidao,Han Qiyang, Hu Weidong.Crystal Growth and Optical Properties of Large Size Single Crystals of Bismuth Silicon Oxide[J].Chinese Journal of Quantum Electronics,1994(1).
Authors:Zhang Shangan  Wei Shidao  Han Qiyang  Hu Weidong
Abstract:
Keywords:crystal growth  Czocharalski method  temperature gradient  crystaldefect    
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