| 石墨基体NiHCF薄膜的离子交换性能 |
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| 引用本文： | 张玫,郝晓刚,马旭莉,刘世斌,樊彩梅,孙彦平.石墨基体NiHCF薄膜的离子交换性能[J].稀有金属材料与工程,2006,35(Z2). |
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| 作者姓名： | 张玫 郝晓刚 马旭莉 刘世斌 樊彩梅 孙彦平 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;山西省自然科学基金;教育部留学回国人员科研启动基金 |
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| 摘 要： | 以石墨为基体材料,采用电沉积和毛细化学沉积方法制备出电活性NiHCF薄膜.通过EDS和SEM考察了薄膜组成及其形貌,在1 mol/l KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放K离子,比较了不同制备方法得到的NiHCF薄膜的电活性、离子交换容量、再生性能和循环寿命;在1 mol/l(KNO3+CsNO3)混合溶液中测定了不同浓度下薄膜的伏安特性曲线,分析了薄膜对Cs+/K+的选择性.实验表明,石墨基体上制得的NiHCF膜能实现电化学控制的离子交换(ESIX)过程;两种方法制得的薄膜对Cs+均有较强的选择性,其中电沉积膜的再生速度高于化学沉积膜,而化学沉积膜的寿命高于电沉积膜.
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| 关 键 词： | 电化学控制离子交换 铁氰化镍膜 电沉积 毛细化学沉积 |
Ion Exchange Performances of Nickel Hexacyanoferrate Thin Films on Graphite Substrate |
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| Zhang Mei,Hao Xiaogang,Ma Xuli,Liu Shibin,Fan Caimei,Sun Yanping.Ion Exchange Performances of Nickel Hexacyanoferrate Thin Films on Graphite Substrate[J].Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(Z2). |
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| Authors: | Zhang Mei Hao Xiaogang Ma Xuli Liu Shibin Fan Caimei Sun Yanping |
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