压力对甲基氯硅烷合成系统的影响

以两套80 kt/a甲基氯硅烷合成装置为研究对象,探讨了反应压力对氯甲烷空床线速度、硅-铜触体转化率、氯甲烷单级转化率及二甲选择性的影响。结果表明,压力为0.23 MPa时,氯甲烷空床线速度较高,反应温度更易实现平稳控制,同时可获得更高的硅-铜触体转化率及氯甲烷单级转化率,但二甲选择性却较0.30 MPa时低。