真空退火对多弧离子镀Ti-Al-N涂层的影响 |
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引用本文: | 刘佳磊,王蕾,张学宇,金松哲.真空退火对多弧离子镀Ti-Al-N涂层的影响[J].热加工工艺,2015(4):165-167,170. |
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作者姓名: | 刘佳磊 王蕾 张学宇 金松哲 |
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作者单位: | 长春工业大学先进结构材料省部共建教育部重点试验室 |
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基金项目: | 吉林省科技厅资助项目(20070511) |
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摘 要: | 采用多弧离子镀技术和后续的真空退火工艺在06Cr19Ni10不锈钢基体上制备了Ti2AlN涂层;研究了多弧离子镀工艺及退火处理对涂层的成分、相组成以及摩擦系数等性能的影响。结果表明,沉积时氮气通量以及退火温度的选择是Ti2AlN相形成的关键因素,在氮气通量40 nm3/h、负偏压400 V、靶电流75 A、占空比90%的条件下镀制的涂层经700℃真空退火获得了纯度较高的Ti2AlN涂层,其硬度为7.2 GPa,摩擦系数仅为0.18。
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关 键 词: | 多弧离子镀 真空退火 Ti2AlN涂层 |
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