制备工艺和添加剂对NiZn铁氧体薄膜性能的影响 |
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作者姓名: | 蒲志勇 李乐中 仰伟 孙小婷 杨禄昌 |
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作者单位: | 成都信息工程学院光电技术学院 |
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摘 要: | Ni Zn铁氧体薄膜具有优良的软磁特性、良好的机械耐磨性、稳定的化学性能、较高的铁磁共振频率和高电阻率等诸多优点,已成为铁氧体薄膜领域重要的研究方向。结合通讯系统器件发展趋势,本文对Ni Zn铁氧体薄膜材料的性能研究及应用进行了介绍,着重从薄膜的制备技术和添加剂等方面综述了当今国内外对Ni Zn铁氧体薄膜研究现状及最新研究进展,并指出了今后Ni Zn铁氧体薄膜研究的主要方向。
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关 键 词: | NiZn铁氧体薄膜 制备工艺 添加剂 |
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