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| 通用工艺与设备 电子工艺 | |
| 摘 要： | 0625999基于JPEG2000标准的ROI技术分析与实现〔刊,中〕/胡荣锋//信息安全与通信保密.—2006,(7).—151-152,156(L)0626000工艺参数对频率选择表面传输特性试验研究〔刊,中〕/吕明云//北京航空航天大学学报.—2006,32(6).—713-715(E)0626001UV-CTP技术及发展〔刊,中〕/门红伟//信息记录材料.—2006,7(4).—38-43(C)0626002射频磁控溅射工艺参数对SiC薄膜发光性能的影响〔刊,中〕/刘技文//光电子·激光.—2006,17(5).—558-563(E)采用射频磁控溅射和后退火的方法在单晶Si(111)衬底上制备了SiC薄膜。采用红外吸收谱仪(FTIR)和X射… |
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