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| 片状固态磷扩散源的应用 | |
| 引用本文： | 韩春凤.片状固态磷扩散源的应用[J].仪表技术与传感器,1986(5). |
| 作者姓名： | 韩春凤 |
| 作者单位： | 沈阳仪器仪表工艺研究所 |
| 摘 要： | 在半导体集成电路工艺中,很重要的步骤就是有选择性地在半导体中掺入N型或P型杂质。磷扩散就是为了形成高浓度的N~+区,制作双极NPN晶体管的发射极E和集电极C的接触区,PNP晶体管的基极接触区,以及单极JFET的源漏接触区,P沟道JEET的栅极接触区,还有夹断电阻的夹断区等。所以磷扩散是集成电路工艺中的重要工艺之一。在磷扩散中用的磷源通常有两种,一种是液态源,就是采用三氯氧磷作杂质源,在 |
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