| 磁控反应溅射TaN薄膜的结构和性能 |
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| 引用本文： | 许俊华,李戈扬,顾明元. 磁控反应溅射TaN薄膜的结构和性能[J]. 功能材料, 2000, 31(3): 306-307 |
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| 作者姓名： | 许俊华 李戈扬 顾明元 |
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| 作者单位： | 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海200030(许俊华，李戈扬，顾明元，金燕萍)，上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海20(辛挺辉) |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射仪制备了ＴａＮ薄膜，研究了不同氮分压条件下ＴａＮ薄膜的成份、结构和力学性能。结果表明，氮分压在０．２＊１０＾－１Ｐａ时镀层由两相混合物正方的β－Ｔａ和面心立方结构的δ－ＴａＮ组成。而氮分压在０．４＊１０＾－１－０．８＊１０＾－１Ｐａ时，得到单相六方ＴａＮ结构。
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| 关 键 词： | 微结构 机械性能 磁控反应溅射 TaN薄膜 |
| 文章编号： | 1001-9731(2000)03-0306-02 |
| 修稿时间： | 1999-03-08 |
The Structures and Properties of the TaN Coatings Deposited by the Reaction Magnetron Sputtering |
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| XU Junhua,LI Geyang,GU Mingyuan,JIN Yanping,XIN Tinghui. The Structures and Properties of the TaN Coatings Deposited by the Reaction Magnetron Sputtering[J]. Journal of Functional Materials, 2000, 31(3): 306-307 |
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| Authors: | XU Junhua LI Geyang GU Mingyuan JIN Yanping XIN Tinghui |
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| Affiliation: | XU Junhua ,LI Geyang ,GU Mingyuan,JIN YanPing ,XIN Tinghui (State Key Lab.of MMCs,Shanghai Jiaotong University,Shanghai,200030,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering TaN coatings nitrogen pressures microstructure mechanical properties |
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