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An Analytical Threshold Voltage Model for Fully Depleted SOI MOSFETs
引用本文:Li Ruizhen,Han Zhengsheng. An Analytical Threshold Voltage Model for Fully Depleted SOI MOSFETs[J]. 半导体学报, 2005, 26(12): 2303-2308
作者姓名:Li Ruizhen  Han Zhengsheng
作者单位:中国科学院微电子研究所,北京100029
摘    要:提出了一种新的全耗尽SOI MOSFETs阈值电压二维解析模型.通过求解二维泊松方程得到器件有源层的二维电势分布函数,氧化层-硅界面处的电势最小值用于监测SOI MOSFETs的阈值电压.通过对不同栅长、栅氧厚度、硅膜厚度和沟道掺杂浓度的SOI MOSFETs的MEDICI模拟结果的比较,验证了该模型,并取得了很好的一致性.

关 键 词:全耗尽SOI MOSFETs  表面势  阈值电压  fully depleted SOI MOSFETs  surface potential  threshold voltage  全耗尽  Fully Depleted SOI MOSFETs  阈值电压  解析模型  Model  Threshold Voltage  channel  doping  concentrations  silicon  film  oxide  MEDICI simulation  different  gate  minimum  potential distribution  active layer  interface  used
文章编号:0253-4177(2005)12-2303-06
修稿时间:2005-05-24

An Analytical Threshold Voltage Model for Fully Depleted SOI MOSFETs
Li Ruizhen and Han Zhengsheng. An Analytical Threshold Voltage Model for Fully Depleted SOI MOSFETs[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2005, 26(12): 2303-2308
Authors:Li Ruizhen and Han Zhengsheng
Affiliation:Institute of Microelectronics,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100029,China;Institute of Microelectronics,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100029,China
Abstract:
Keywords:fully depleted SOI MOSFETs  surface potential  threshold voltage
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