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| TiAl的室温氢致滞后的断裂 | |
| 引用本文： | 高克玮,王燕斌.TiAl的室温氢致滞后的断裂[J].金属学报,1997,33(1):29-32. |
| 作者姓名： | 高克玮 王燕斌 |
| 摘 要： | ＴｉＡｌ镀Ｎｉ－Ｐ后避免阴极腐蚀。氢化物饱和的试样平面应力断裂韧性ＫＣ（Ｈ）比空气中的ＫＣ值低约２０％。含饱和氢化物试样动态充氢时能发生滞后断裂，这是原子氢引起的。氢致滞后断裂门槛值ＫＩＨ和ＫＣ（Ｈ）的比值约为０．７。 |
| 关 键 词： | 氢化物 氢致滞后撕裂 TiAl 金属间化合物 |
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