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TiAl的室温氢致滞后的断裂
引用本文:
高克玮,王燕斌.TiAl的室温氢致滞后的断裂[J].金属学报,1997,33(1):29-32.
作者姓名:
高克玮
王燕斌
摘 要:
TiAl镀Ni-P后避免阴极腐蚀。氢化物饱和的试样平面应力断裂韧性KC(H)比空气中的KC值低约20%。含饱和氢化物试样动态充氢时能发生滞后断裂,这是原子氢引起的。氢致滞后断裂门槛值KIH和KC(H)的比值约为0.7。
关 键 词:
氢化物
氢致滞后撕裂
TiAl
金属间化合物
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