磁控溅射制备Fe/Ti多层膜的结构和磁性 |
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作者姓名: | 王振军 闻立时 |
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作者单位: | [1]北京科技大学 [2]中国科学院金属研究所 |
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摘 要: | 用磁控溅射技术制备了系列Fe/Ti纳米多层膜,周期调制在2.2-24.0nm,用透射电镜和小角,高角X射线衍射分别研究了样品的结构;用振动样品磁强计和Moessbauer谱研究了样品的磁性。发现铁层厚度在2nm附近时在铁磁性面立方γ-Fe,样品的易磁化方向平行于膜面;随调制周期增大,样品的饱和磁化强度增加,矫顽力下降且与结晶状态有关。
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关 键 词: | 多层膜 磁控溅射 铁磁性 |
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