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影响金属薄膜沉积初期因素的有限单元法模拟
引用本文:宋鹏,陆建生,周洁,张德丰,杨滨.影响金属薄膜沉积初期因素的有限单元法模拟[J].材料科学与工艺,2007,15(2):290-293.
作者姓名:宋鹏  陆建生  周洁  张德丰  杨滨
作者单位:1. 昆明理工大学,材料与冶金工程学院,云南,昆明,650093
2. 昆明贵金属研究所,云南,昆明,650221
摘    要:利用有限单元法对影响金属薄膜沉积初期的因素进行了计算机模拟.按膜料为Pt、Pt-Ru、Pt-Ti、Pt-Ni、Pt-Al等五种模式,采用刚性球入射到C或Si基底,重点研究了沉积原子的半径差异比、沉积原子能量和原子入射角等参数对薄膜沉积的影响,同时检验了有限元方法在微观领域中的合理性和适用性.

关 键 词:金属薄膜  沉积因素  有限单元法  计算机模拟
文章编号:1005-0299(2007)02-0290-04
修稿时间:2004-09-21

Finite element method simulation of affecting factors during metal thin film deposition
SONG Peng,LU Jian-sheng,ZHOU Jie,ZHANG De-feng,YANG Bin.Finite element method simulation of affecting factors during metal thin film deposition[J].Materials Science and Technology,2007,15(2):290-293.
Authors:SONG Peng  LU Jian-sheng  ZHOU Jie  ZHANG De-feng  YANG Bin
Affiliation:1.The Faculty of Materials and Metallurgical Engineering, Kunming University of Science and Technology, Kunming,650093 ,China. 2. Kunming Institute of Precious Metal, Kunming, 650221 ,China.
Abstract:
Keywords:metal film  deposition factors  finite element method  computer simulation
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