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基于CCD工艺的模型参数提取测试图形设计
引用本文:祝晓笑,石念,杨洪,翁雪涛. 基于CCD工艺的模型参数提取测试图形设计[J]. 半导体光电, 2011, 32(4): 492-494,572
作者姓名:祝晓笑  石念  杨洪  翁雪涛
作者单位:重庆光电技术研究所,重庆,400060;重庆光电技术研究所,重庆,400060;重庆光电技术研究所,重庆,400060;重庆光电技术研究所,重庆,400060
摘    要:介绍了一套基于CCD工艺的模型参数提取用测试图形(Testchip)设计方法。该Testchip的设计充分考虑了CCD工艺特征、中测测试条件、CCD放大器特性等各种关键因素,并在对应的工艺线进行流片,得到了完整的测试数据。

关 键 词:CCD  模型参数提取  测试图形

Design of Testchip for Model Parameter Extraction Based on CCD Process
ZHU Xiaoxiao,SHI Nian,YANG Hong,WENG Xuetao. Design of Testchip for Model Parameter Extraction Based on CCD Process[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2011, 32(4): 492-494,572
Authors:ZHU Xiaoxiao  SHI Nian  YANG Hong  WENG Xuetao
Affiliation:(Chongqing Optoelectronics Research Institute,Chongqing 400060,CHN)
Abstract:
Keywords:CCD  model parameter extraction  test chip
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