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LiF层作为空穴阻挡层的绿色OLED的光电性能研究
引用本文:杨惠山.LiF层作为空穴阻挡层的绿色OLED的光电性能研究[J].半导体光电,2011,32(4):462-464,468.
作者姓名:杨惠山
作者单位:泉州师范学院物理与信息工程学院,福建泉州,362000
基金项目:泉州市优秀人才培养专项经费资助项目(08A23);福建省科技计划项目资助省属高校项目(2008F5054);泉州市科技局基金项目(2007G8)
摘    要:采用真空热蒸镀方法,制备了四种Delta掺杂结构OLED器件,其结构为:ITO/m-MTDATA(50nm)/LiF(xnm)/NPB(10nm)/Alq(5nm)/C545T(0.05nm)/Alq(55nm)/LiF(1nm)/Al,都获得了性能稳定的绿色OLED器件。从实验结果分析可知:绿色OLED器件的电流-电压(I-V)特性曲线、亮度-电压(L-V)曲线、亮度-电流(L-I)曲线及效率等光电性能随着LiF厚度的变化而随之改变。从其中总结规律,对OLED器件制作工艺有一定的指导作用。

关 键 词:多层结构  有机电致发光  Delta掺杂  光电性能

Photoelectric Properties of Green OLED with LiF Hole Blocking Layer
YANG Huishan.Photoelectric Properties of Green OLED with LiF Hole Blocking Layer[J].Semiconductor Optoelectronics,2011,32(4):462-464,468.
Authors:YANG Huishan
Affiliation:YANG Huishan(College of Physics and Information Engineering,Quanzhou Normal University,Quanzhou 362000,CHN)
Abstract:
Keywords:multilayer structure  organic light-emitting device  Delta doping optoelectronic performance
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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