Ti40合金在500~1000℃的恒温氧化行为 |
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作者姓名: | 黄明月 辛社伟 赵永庆 卢亚峰 李 倩 巨建辉 |
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作者单位: | 西安诺博尔稀贵金属材料有限公司,陕西 西安710201,西北有色金属研究院,陕西 西安 710016,西北有色金属研究院,陕西 西安 710016,西北有色金属研究院,陕西 西安 710016,西北有色金属研究院,陕西 西安 710016,西北有色金属研究院,陕西 西安 710016 |
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摘 要: | 研究了Ti40合金在500~1000℃范围内的恒温氧化行为。氧化增重实验及XRD、SEM、EDS的分析结果表明,Ti40合金的氧化机制可以V的氧化物V2O5的熔点为分界,在700℃以下氧化时,氧化层平整且致密,表面主要由V2O5和TiO2组成,氧化的主要过程为混合氧化膜中的V2O5向外择优生长,氧化机制受V元素在V2O5中的扩散机制控制。在700℃以上氧化时,V2O5的熔化挥发,导致氧化层疏松多孔,氧化层主要由TiO2和SiO2构成,在氧化层和基体的界面处,存在V、Cr元素的富集层,此条件下,合金的氧化受V元素在β钛合金中的扩散机制控制。
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关 键 词: | Ti40合金;氧化;扩散 |
收稿时间: | 2014-05-20 |
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