| 非晶态Tb-Fe硅基薄膜超磁致伸缩特性研究 |
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| 引用本文： | 曾科军.非晶态Tb-Fe硅基薄膜超磁致伸缩特性研究[J].化学工程师,2005,19(10):13-14. |
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| 作者姓名： | 曾科军 |
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| 作者单位： | 91550部队第240所 辽宁大连116023 |
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| 摘 要： | 本文研究由溅射法制备的非晶态Tb-Fe硅基薄膜在室温下的磁致伸缩特性,从中找到一种在低磁场下仍具有较大磁致伸缩性的材料。研究结果表明:非晶态Tb-Fe薄膜,经450℃真空热处理,在其非晶相基础上可形成均匀细小的晶体颗粒,其磁致伸缩系数在49×104A.m-1的外磁场中可达380×10-6,并且λ随H的增大迅速提高,具有良好的软磁特性,符合预期的应用要求。
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| 关 键 词： | 非晶态 超磁致伸缩 薄膜 溅射法 |
| 文章编号： | 1002-1124（2005）10-0013-02 |
| 收稿时间： | 2005-08-03 |
| 修稿时间： | 2005年8月3日 |
Study on the magnetostriction of amorphous Tb- Fe silica baseplate thin film |
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| ZENG Ke-jun.Study on the magnetostriction of amorphous Tb- Fe silica baseplate thin film[J].Chemical Engineer,2005,19(10):13-14. |
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| Authors: | ZENG Ke-jun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | amorphous giant magnetostriction thin films sputtering |
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