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电沉积制备Co-Nd稀土功能合金膜
引用本文:苟劲,谷历文. 电沉积制备Co-Nd稀土功能合金膜[J]. 电镀与精饰, 2002, 24(4): 1-4
作者姓名:苟劲  谷历文
作者单位:1. 重庆师范学院,化学系,重庆,400047
2. 广东省东莞市技术监督局质检所,广东,东莞,523120
摘    要:研究了室温下含有NdCl3,CoCl2,极性非质子溶剂二甲基甲酰胺及少量水的溶液中电沉积制备Co-Nd稀土功能合金膜,在控制溶液中NdCl3 CoCl2的总量为0.2mol/L的电渡液中以-3.000V进行恒电位电镀,电流密度为15mA/cm^2进行恒电流电镀或脉冲电流密度5-15mA/cm^2进行脉冲电镀,可得到不同形态和不同的Nd的质量分数的稀土功能合金膜。

关 键 词:电沉积 制备 Co-Nd稀土功能合金膜 共沉积 恒电位 恒电流 脉冲 钴 钕
文章编号:1001-3849(2002)04-0001-04
修稿时间:2002-01-21

Electrodeposition Preparation of Rare-Earth Functional Co-Nd Alloy Film
GOU Jing ,GU Li-wen. Electrodeposition Preparation of Rare-Earth Functional Co-Nd Alloy Film[J]. Plating & Finishing, 2002, 24(4): 1-4
Authors:GOU Jing   GU Li-wen
Affiliation:GOU Jing 1,GU Li-wen 2
Abstract:
Keywords:codeposition  potentiostat  galvanostat  pulse  Co-Nd
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