|
|||||
|
|
| 新型UV—CVD工艺系统的研制 | |
| 引用本文： | 刘洪宁,张建诚.新型UV—CVD工艺系统的研制[J].电子工业专用设备,1999,28(2):27-29. |
| 作者姓名： | 刘洪宁 张建诚 |
| 作者单位： | 西安电子科技大学微电子所 |
| 摘 要： | 由于一些半导体器件要求在低温条件下进行薄膜淀积，近年来出现了一些新的低温薄膜淀积设备。介绍新近研制的一种利用紫外光能量辅助ＣＶＤ工艺系统 |
| 关 键 词： | 硅技术 半导体 设备 光化学汽相淀积 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |