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铈盐掺杂GPTMS/TEOS硅烷杂化膜腐蚀电化学行为随时间的变化
引用本文:张金涛,李春东,潘亮,胡吉明.铈盐掺杂GPTMS/TEOS硅烷杂化膜腐蚀电化学行为随时间的变化[J].腐蚀与防护,2009(12).
作者姓名:张金涛  李春东  潘亮  胡吉明
作者单位:常州工学院化工系;浙江大学化学系;
基金项目:国家自然科学基金项目(50871101); 江苏省高校自然科学研究指导性项目(YW06005)资助
摘    要:以γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷(GPTMS)和正硅酸乙酯(TEOS)为前躯体,采用溶胶-凝胶法在LY12铝合金基体表面制备了铈盐Ce(NO3)3掺杂有机-无机杂化膜。通过极化曲线与电化学阻抗谱(EIS)研究铈盐掺杂硅烷杂化膜在3.5%(质量分数)NaCl溶液中耐蚀性能随浸泡时间的变化。结果表明,硅烷杂化膜的极化阻抗值随浸泡时间延长而缓慢降低,但浸泡183 h后仍显著高于金属基体;铝合金点蚀电位在浸泡期间呈现先降低后升高再降低的变化。在浸泡初期,EIS曲线的高频容抗行为显著。从69 h至260 h浸泡试验结束,低频阻抗值保持基本稳定。上述变化与膜中掺杂的铈盐具有自修复性质密切相关。

关 键 词:铈盐  有机硅烷  铝合金  极化曲线  电化学阻抗谱  

Changes of Corrosion Electrochemical Behavior of Cerium Nitrate Doped GPTMS/TEOS Silane Hybrid Films with Immersion Time
ZHANG Jin-tao,LI Chun-dong,PAN Liang,HU Ji-ming.Changes of Corrosion Electrochemical Behavior of Cerium Nitrate Doped GPTMS/TEOS Silane Hybrid Films with Immersion Time[J].Corrosion & Protection,2009(12).
Authors:ZHANG Jin-tao  LI Chun-dong  PAN Liang  HU Ji-ming
Affiliation:ZHANG Jin-tao1,LI Chun-dong1,PAN Liang1,HU Ji-ming2(1.Changzhou Institute of Technology,Changzhou 213022,China,2.Zhejiang University,Hangzhou 310027,China)
Abstract:
Keywords:cerium salt  silane  aluminum alloy  polarization curve  electrochemical impedance spectroscopy  
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
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