光敏抗菌剂及其在纺织材料上的应用研究进展 |
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引用本文: | 周卫冕,杨群,朱杰,崔进,陶思轩,仇慧丽,王际平.光敏抗菌剂及其在纺织材料上的应用研究进展[J].丝绸,2024(5):58-68. |
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作者姓名: | 周卫冕 杨群 朱杰 崔进 陶思轩 仇慧丽 王际平 |
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作者单位: | 1. 上海工程技术大学纺织服装学院;2. 上海纺织化学清洁生产工程技术研究中心;3. 上海伊纯实业有限公司 |
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基金项目: | 国家自然科学基金项目(52173038); |
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摘 要: | 光敏抗菌剂是一种光敏分子,在日光和UVA的照射下吸收能量而激发,生成对生物物种产生氧化损伤的活性氧。将光敏抗菌剂负载在纺织材料上使其在日光或紫外光的照射下具有抗菌特性,是近年来抗菌材料的研究热点。光敏抗菌剂主要包括卟啉类、杂蒽类、噻吩类、天然光敏剂、无机纳米光敏抗菌剂等,其在纺织品上的应用方法也有多种,包括涂层法、化学改性法、静电吸附法、静电纺丝法等。因此,本文对几种光敏抗菌剂的化学结构、光反应效率、抗菌机理、在纺织材料上的应用研究及负载到纺织材料上后所出现的问题进行综述,并对未来智能光敏抗菌纺织材料的研发重点进行展望。
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关 键 词: | 光敏抗菌剂 纺织材料 负载方法 功能改性 光反应效率 光敏抗菌机理 |
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