| ZnO:Al(ZAO)薄膜的制备与特性研究 |
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| 引用本文： | 裴志亮,张小波,王铁钢,宫骏,孙超,闻立时.ZnO:Al(ZAO)薄膜的制备与特性研究[J].金属学报,2005,41(1):84-88. |
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| 作者姓名： | 裴志亮 张小波 王铁钢 宫骏 孙超 闻立时 |
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| 作者单位： | 中国科学院金属研究所,沈阳,110016 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目50172051~~ |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射技术制备了ZnO:Al(ZAO)薄膜.研究了不同的工艺参数对薄膜的组织结构和光电特性的影响.实验结果表明,多晶ZAO薄膜具有(001)择优取向且呈柱状生长,能量机制决定其微观生长状态.讨论了薄膜的内应力,高的沉积温度和低的溅射功率可有效减小薄膜的内应力.优化的ZAO薄膜电阻率和在可见光区的平均透射率可分别达到3×10-4-4×10-4Ω·cm和80％以上.
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| 关 键 词： | 直流反应磁控溅射 ZAO薄膜 生长机制 光电特性 |
| 文章编号： | 0412-1961(2005)01-0084-05 |
PREPARATION AND PROPERTIES OF ZnO:Al (ZAO) THIN FILMS DEPOSITED BY DC REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING |
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| PEI Zhiliang,ZHANG Xiaobo,WANG Tiegang,GONG Jun,SUN Chao,WEN LishiInstitute of Metal Research,The Chinese Academy of Sciences,Shenyang.PREPARATION AND PROPERTIES OF ZnO:Al (ZAO) THIN FILMS DEPOSITED BY DC REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING[J].Acta Metallurgica Sinica,2005,41(1):84-88. |
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| Authors: | PEI Zhiliang ZHANG Xiaobo WANG Tiegang GONG Jun SUN Chao WEN LishiInstitute of Metal Research The Chinese Academy of Sciences Shenyang |
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| Affiliation: | PEI Zhiliang,ZHANG Xiaobo,WANG Tiegang,GONG Jun,SUN Chao,WEN LishiInstitute of Metal Research,The Chinese Academy of Sciences,Shenyang 110016 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | DC reactive magnetron sputtering ZAO film growth mechanism electrical and optical propertie |
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