光稳定剂在有机高分子文物保护材料改性中的应用 |
| |
引用本文: | 张彤,王丽琴.光稳定剂在有机高分子文物保护材料改性中的应用[J].材料导报,2014(9). |
| |
作者姓名: | 张彤 王丽琴 |
| |
作者单位: | 西北大学文化遗产学院;西北大学文化遗产研究与保护技术教育部重点实验室; |
| |
基金项目: | 国家自然科学基金(21175104);陕西省教育厅基金(13JZ045);陕西省重点学科建设专项资金 |
| |
摘 要: | 有机高分子材料是一类重要的文物保护材料,但由于自身稳定性的限制,在紫外线照射下常发生光老化现象。因此,利用光稳定剂对其进行改性,对高性能文物保护材料的研制具有重要意义。综述了有机高分子文物保护材料的光老化机理和紫外线吸收剂、受阻胺、纳米光屏蔽剂3类常用稳定剂的稳定机理,并阐述了其在文物保护材料改性中的应用。
|
关 键 词: | 光稳定剂 改性 文物保护材料 |
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|