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氮化硅晶须显微结构的研究
引用本文:周延春 常昕. 氮化硅晶须显微结构的研究[J]. 电子显微学报, 1994, 13(2): 90-94
作者姓名:周延春 常昕
作者单位:中国科学院金属研究所
摘    要:利用透射电子显微镜对气固相法制备的α-Si_3N_4和β-Si_3N_4晶须的显微结构进行了研究。实验发现α-Si_3N_4晶须具有何(1010),(1011)和[0001]三个生长方向,并且α-Si_3N_4晶须中有大量的生长缺陷。而β-Si_3N_4晶须的生长方向只有(1010)一个,且几乎观察不到任何缺陷。

关 键 词:晶须 显微结构 缺陷 氮化硅 电子显微镜

Microstructure of Si_3N_4 Whiskers
Zhou Yanchun Chang Xin Zhou Jing Chen Shengqi Xia Fei. Microstructure of Si_3N_4 Whiskers[J]. Journal of Chinese Electron Microscopy Society, 1994, 13(2): 90-94
Authors:Zhou Yanchun Chang Xin Zhou Jing Chen Shengqi Xia Fei
Abstract:
Keywords:Si_3N_4 Whisker microstructure defects  
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