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高压0.18 μm先进工艺技术
引用本文:上海华虹NEC电子有限公司工程一部.高压0.18 μm先进工艺技术[J].中国集成电路,2007,16(7):36-37.
作者姓名:上海华虹NEC电子有限公司工程一部
作者单位:上海华虹NEC电子有限公司工程一部
摘    要:1、简介项目名称:高压0.18μm先进工艺技术,该项目产品属于30V高工作电压的关键尺寸为0.18μm的逻辑器件。在8英寸硅片上经过32层光刻版制作完成的该产品集成了10余种晶体管,可广泛应用于手机、电脑、PDA、电视等液晶显示器的驱动器件。

关 键 词:技术  工艺  高压  产品集成  液晶显示器  项目名称  逻辑器件  关键尺寸
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