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| 低缺陷掺氮直拉硅单量抛光片 | |
| 引用本文： | 无.低缺陷掺氮直拉硅单量抛光片[J].中国集成电路,2007,16(8):30-31. |
| 作者姓名： | 无 |
| 作者单位： | [1]宁波立立电子股份有限公司 [2]浙江大学硅材料国家重点实验室 |
| 摘 要： | 该产品采用气相掺氮技术，即氮气既作为保护气，又通过与硅熔体反应掺入熔体，是硅晶体中氮的来源，解决了气相掺氮掺入量控制的难题。用气相（氮气）直接掺氮，操作简便，成本低廉，但需要用特殊方法精确控制掺入量。 |
| 关 键 词： | 直拉硅 掺氮 抛光片 缺陷 熔体反应 精确控制 掺入量 气相 |
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