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一种新型结构的静电感应晶体管
引用本文:唐莹,刘肃,李思渊,吴蓉,常鹏.一种新型结构的静电感应晶体管[J].半导体学报,2007,28(6):918-922.
作者姓名:唐莹  刘肃  李思渊  吴蓉  常鹏
作者单位:兰州大学物理科学与技术学院微电子学研究所,兰州 730000;兰州大学物理科学与技术学院微电子学研究所,兰州 730000;兰州大学物理科学与技术学院微电子学研究所,兰州 730000;兰州交通大学电子与信息工程学院电子科学与技术系,兰州 730070;兰州大学物理科学与技术学院微电子学研究所,兰州 730000
摘    要:提出了一种新型结构的静电感应器件,设计了一道环绕的深槽,用以切断寄生效应.静电感应器件的寄生效应会导致器件性能的劣化甚至失效,文中提出了寄生效应的模型,并用PSPICE进行了仿真模拟,数值模拟结果和实验结果一致.实验表明这种深槽结构能够有效截断寄生路径,消除寄生电流的影响,优化器件性能.同时,文章详细描述了这种器件的设计和制造工艺.

关 键 词:静电感应晶体管  深槽结构  寄生效应  深槽腐蚀  深槽结构  静电感应晶体管  Static  Induction  Transistor  制造工艺  器件性能  描述  优化  电流的影响  路径  寄生效应  模拟结果  实验  数值  仿真模拟  PSPICE  模型  失效  劣化  切断  环绕
文章编号:0253-4177(2007)06-0918-05
修稿时间:2/12/2007 7:10:10 PM

A Novel Structure for a Static Induction Transistor
Tang Ying,Liu Su,Li Siyuan,Wu Rong and Chang Peng.A Novel Structure for a Static Induction Transistor[J].Chinese Journal of Semiconductors,2007,28(6):918-922.
Authors:Tang Ying  Liu Su  Li Siyuan  Wu Rong and Chang Peng
Affiliation:Institute of Microelectronics,School of Physical Science and Technology,Lanzhou University,Lanzhou 730000,China;Institute of Microelectronics,School of Physical Science and Technology,Lanzhou University,Lanzhou 730000,China;Institute of Microelectronics,School of Physical Science and Technology,Lanzhou University,Lanzhou 730000,China;School of Electronic and Information Engineering,Lanzhou Jiaotong University,Lanzhou 730070,China;Institute of Microelectronics,School of Physical Science and Technology,Lanzhou University,Lanzhou 730000,China
Abstract:A new structure is presented for designing and fabricating a static induction transistor (SIT).The transistor is designed to be surrounded by a deep groove to cut off the various probable parasitic effects that may degrade the device performance,especially the parallel-current effect.A mathematical model for the parasitic effect of SIT is proposed and simulated with PSPICE.The simulation results agree with the experiments.The novel structure is effective for avoiding the parallel-current effect.The etching technique of the groove is also investigated in depth in this paper.
Keywords:SIT  deep groove structure  parasitic effect  deep groove etching
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