| 脉冲电解制备纯铜的工艺条件 |
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| 引用本文： | 陈少华,鲁道荣,李学良,何建波.脉冲电解制备纯铜的工艺条件[J].有色金属,2004,56(3):41-44. |
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| 作者姓名： | 陈少华 鲁道荣 李学良 何建波 |
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| 作者单位： | 合肥工业大学,化工学院,合肥,230009 |
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| 基金项目： | 安徽省自然科学基金资助项目 ( 9862 5 2 48) |
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| 摘 要： | 在小型电解槽中。研究脉冲电解法精炼铜的最佳工艺条件。脉冲电解参数为：平均电流密度500A／m^2，脉冲宽度6．0ms，脉冲间隔12．0ms。结果表明。最佳电解工艺条件：电解温度30℃；硫酸浓度140～180g／L；极间距5～6cm；氯离子添加量3．0mg／L；硫脲添加量0．5mg／L；骨胶添加量0．75mg／L；有害杂质允许含量(g／L)，As^3 ≤0．1,Sb^3 ≤0．05,Bi^3 ≤0．05。
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| 关 键 词： | 纯铜 脉冲电解 电解精炼 结晶形态 工艺条件 |
| 文章编号： | 1001-0211(2004)03-0041-04 |
| 修稿时间： | 2004年2月16日 |
Optimal Technical Condition for Copper Pulse Electrolysis |
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| CHEN Shao-hua,LU Dao-rong,LI Xue-liang,HE Jian-bo.Optimal Technical Condition for Copper Pulse Electrolysis[J].Nonferrous Metals,2004,56(3):41-44. |
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| Authors: | CHEN Shao-hua LU Dao-rong LI Xue-liang HE Jian-bo |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | nonferrous metals metallurgy copper pulse electrolysis technical conditions crystalline formation |
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