IC缺陷轮廓的盒维数及其方向的分布特征 |
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引用本文: | 姜晓鸿,郝跃,徐国华.IC缺陷轮廓的盒维数及其方向的分布特征[J].半导体学报,1998,19(8):625-630. |
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作者姓名: | 姜晓鸿 郝跃 徐国华 |
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作者单位: | 西安电子科技大学微电子研究所 |
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摘 要: | 为了进行有效的集成电路(IC)成品率预报及故障分析,与光刻有关的硅片表面缺陷通常被假定为圆形的或方形的.然而,真实的缺陷的形貌是多种多样的.本文讨论了缺陷轮廓所具有的分形特征.该结果为硅片表面缺陷的精细表征及其计算机模拟作了有益的探索
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关 键 词: | IC 缺陷轮廓 设计 盒维数 |
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