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磁控溅射有机衬底ZnO:SnO2透明导电膜的结构和光电特性
引用本文:黄树来,马瑾,计峰,余旭浒,王玉恒,马洪磊.磁控溅射有机衬底ZnO:SnO2透明导电膜的结构和光电特性[J].功能材料,2004,35(5):630-631,634.
作者姓名:黄树来  马瑾  计峰  余旭浒  王玉恒  马洪磊
作者单位:山东大学,物理与微电子学院,山东,济南,250100;山东大学,物理与微电子学院,山东,济南,250100;山东大学,物理与微电子学院,山东,济南,250100;山东大学,物理与微电子学院,山东,济南,250100;山东大学,物理与微电子学院,山东,济南,250100;山东大学,物理与微电子学院,山东,济南,250100
基金项目:教育部科学技术研究重点资助项目(重点02165);博士点基金资助项目(20020422056)
摘    要:采用磁控溅射技术在有机衬底上低温制备出具有低电阻率和良好附着性的ZnO∶SnO透明导电膜.研究了制备ZnO∶SnO薄膜的结构、成分和光电性质.制备薄膜为非晶结构,有机衬底ZnO∶SnO透明导电膜的最低电阻率约10-2Ω*cm,可见光平均透过率>82%.薄膜中的氧偏离理想化学配比,氧空位是薄膜中载流子的主要来源.

关 键 词:有机衬底  ZnO∶SnO薄膜  磁控溅射
文章编号:1001-9731(2004)05-0630-02
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