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| 8.0nnX射线激光反射镜Mo／B4C多层膜制备及其特性 | |
| 作者姓名： | 吕俊霞 沈长斌 |
| 作者单位： | [1]中国科学院长春光学精密机械研究所 [2]大连铁道学院 |
| 摘 要： | 用磁控溅射法制备工作波长约８．０ｎｍ的Ｍｏ／Ｂ４Ｃ的多层膜作为正入射短波长（λ〈１０．０ｎｍ）软Ｘ射线激光反射腔的反射镜，经Ｘ射线衍射仪和ＴＥＭ检测，多层膜周期结构准确，热稳定性高。 |
| 关 键 词： | 软X射线 多层膜 磁控溅射法 激光反射镜 膜系 |
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