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二氧化硅在覆铜板中的应用
引用本文:杨艳,曾宪平.二氧化硅在覆铜板中的应用[J].印制电路信息,2004(7):18-22.
作者姓名:杨艳  曾宪平
作者单位:广东生益科技股份有限公司,523039
摘    要:探讨了二氧化硅表面处理后在覆铜板中的优化应用、工艺条件选择以及二氧化硅对覆铜板性能的影响和改进,初步探讨了添加二氧化硅填料后的FR-4覆铜板的热膨胀系数和孔壁树脂凹缩的改善。

关 键 词:二氧化硅  表面处理  FR-4覆铜板  热膨胀系数  孔壁树脂凹缩

The Silica Using in the Copper Clad Laminate
Yang Yan Zeng Xianping.The Silica Using in the Copper Clad Laminate[J].Printed Circuit Information,2004(7):18-22.
Authors:Yang Yan Zeng Xianping
Affiliation:Yang Yan Zeng Xianping
Abstract:This article pursures the silica perfective using and technology condition choice in the copper clad laminate after surface treament and the silica influence and development on the general properties of the copper clad laminate. This article also seek the development on the coefficient of thermal expansion (CTE, X-axis) and the hole wall resin recession of the laminate after adding the silica into the laminate.
Keywords:silica surface treament FR-4 copper clad laminate coefficient of thermal expansion hole wall resin recession  
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