真空开关对触头材料含气量要求的初步探讨 |
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引用本文: | 吴维忠.真空开关对触头材料含气量要求的初步探讨[J].高压电器,1977(6). |
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作者姓名: | 吴维忠 |
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摘 要: | 真空开关开断过程中,触头会有所烧损,触头材料中所含的气体分子将放出,这些放出的气体对开断中的灭弧过程及开断后灭弧室的真空度会产生什么影响呢?这是一个值得深入研宄探讨的问题。本文作者着重对开断后灭弧室真空度会发生怎样的变化这一问题作了探讨性分析。作者认为,在触头烧损放出气体的同时,触头烧损形成的蒸汽流将射向屏蔽罩,附着在屏蔽罩上形成金属蒸汽沉积层,这个金属蒸汽沉积层在形成过程中将吸收一大批气体分子,从而,开断后灭弧室真空度的变化,不仅受触头烧损放气的影响,也同样受屏蔽罩吸气的影响。据此概念,并对复杂的实际物理过程作了较多简化后,粗略地估算了开断后灭弧室真空度的变化情况,提供给广大真空开关工作者来共同研宄讨论。
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