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| 0.6NA、364nm波长激光束直接描画机的对准性能 | |
| 引用本文： | 董志义.0.6NA、364nm波长激光束直接描画机的对准性能[J].电子工业专用设备,1992,21(3):35-43. |
| 作者姓名： | 董志义 |
| 摘 要： | 本文提出了一台高分辩率激光扫描光刻系统的对准性能数据。该系统采用了通过成像物镜进行对准的同轴对准原理(TTL),其具有多束光路、亮场和暗场照明及高低倍放大光学系统的特点。整机的总套刻精度优于0.1μm。 |
| 关 键 词： | 集成电路 激光扫描 光刻系统 对准 |
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