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低速高电荷态重离子在GaN单晶中引起的辐照损伤研究
引用本文:杨义涛,张崇宏,孙友梅,姚存峰,赵志明.低速高电荷态重离子在GaN单晶中引起的辐照损伤研究[J].核技术,2007,30(4):318-322.
作者姓名:杨义涛  张崇宏  孙友梅  姚存峰  赵志明
作者单位:中国科学院近代物理研究所,中国科学院研究生院北京100080,中国科学院近代物理研究所,中国科学院近代物理研究所,中国科学院近代物理研究所,中国科学院研究生院北京100080,中国科学院近代物理研究所 兰州730000,兰州730000,兰州730000,兰州730000,兰州730000
基金项目:中国科学院“西部之光”人才培养计划、近代物理研究所所长基金、北京大学重离子物理重点实验室资助的项目.致谢 作者感谢中国科学院物理研究所陈弘研究员提供了GaN样品材料.
摘    要:利用Rutherford沟道背散射分析研究了低速高电荷态重离子(Xe26 )在氮化镓(GaN)晶体中辐照损伤的产生对剂量的依赖关系,比较了垂直照射和60°倾斜照射的差异.基于"库仑爆炸"模型对结果进行了解释.

关 键 词:低速高电荷重离子  氮化镓  辐照损伤
修稿时间:2007-01-12

A study of damage accumulation in GaN single crystals induced by slow highly-charged heavy ions
YANG Yitao,ZHANG Chonghong,SUN Youmei,YAO Cunfeng,ZHAO Zhiming.A study of damage accumulation in GaN single crystals induced by slow highly-charged heavy ions[J].Nuclear Techniques,2007,30(4):318-322.
Authors:YANG Yitao  ZHANG Chonghong  SUN Youmei  YAO Cunfeng  ZHAO Zhiming
Affiliation:1.Institute of Mode Physics, Chinese Academy of Sciences, Lanzhou, 730000, China;2.Graduate School of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100080, China
Abstract:
Keywords:Slow highly-charged ions(SHCI)  Gallium nitride(GaN)  Irradiation damage
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