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Cellular automaton model of phase separation during annealing of nonstoichiometric silicon oxide layers
Authors:G. Ya. Krasnikov  N. A. Zaitsev  I. V. Matyushkin  S. V. Korobov
Affiliation:1. JSC Research Institute of Molecular Electronics (NIIME), Zelenograd, Moscow, 124460, Russia
Abstract:
Keywords:
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