| 用于光谱分析的高纯铱基体的研制 |
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| 引用本文： | 侯晓川, 高丛堦, 肖连生, 张树峰, 刘会基, 郭金良. 用于光谱分析的高纯铱基体的研制[J]. 工程科学学报, 2010, 32(9): 1203-1208. DOI: 10.13374/j.issn1001-053x.2010.09.017 |
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| 作者姓名： | 侯晓川 高丛堦 肖连生 张树峰 刘会基 郭金良 |
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| 作者单位： | 中南大学冶金科学与工程学院,长沙,410083;金川集团公司,金昌,737100;中南大学冶金科学与工程学院,长沙,410083;金川集团公司,金昌,737100 |
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| 摘 要： | 为满足新国家标准对铱标准样品的要求,研制出用于光谱分析的高纯铱基体.通过实验研究,确定了高纯铱基体研制的工艺流程为P204萃取除去贱金属阳离子→N235萃取除去以络合阴离子存在的贵金属杂质→H2还原除铑及其他金属杂质→732#树脂交换除去痕量的贱金属阳离子→NH4Cl沉淀铱、H2还原铱→HF除硅.研制出的铱基体纯度高达99.999%.实验研究全流程铱的直收率为61.99%,铱的总收率为95.26%.
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| 关 键 词： | 铱 基体 提纯 光谱分析 标准样品 |
| 收稿时间： | 2009-11-30 |
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