首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

10A/600V大功率硅基JBS肖特基二极管的制备
引用本文:陈菩祥,高桦,李海蓉,刘肃. 10A/600V大功率硅基JBS肖特基二极管的制备[J]. 电子器件, 2014, 37(6)
作者姓名:陈菩祥  高桦  李海蓉  刘肃
作者单位:兰州大学微电子所,兰州,730000
基金项目:甘肃省科技支撑计划项目
摘    要:为了弥补传统肖特基二极管漏电流大和反向耐压低的不足,采用栅条P+-N结和肖特基结嵌套形成结势垒肖特基二极管(JBS),终端结构由7道场限环和1道切断环构成。通过模拟确定最优参数后流片试验,同步制备肖特基二极管(SBD)和Pi N二极管作为对比。结果表明:制备的JBS二极管兼备SBD二极管正偏和Pi N二极管反偏的优点。在漏电流密度小于1×10-5A/cm2时,反向耐压达到600 V;正向电流10 A(80.6 A/cm2)时,导通压降仅为1.1V。

关 键 词:肖特基二极管  结势垒肖特基二极管  栅条结构  场限环  反向耐压 V

Fabrication of High-Power 10 A/600 V Si-Based Junction Barrier Schottky(JBS) Diode
CHEN Puxiang,GAO Hua,LI Hairong,LIU Su?. Fabrication of High-Power 10 A/600 V Si-Based Junction Barrier Schottky(JBS) Diode[J]. Journal of Electron Devices, 2014, 37(6)
Authors:CHEN Puxiang  GAO Hua  LI Hairong  LIU Su?
Abstract:
Keywords:SBD diodes  JBS diodes  gridstructure  field guarding rings  breakdown voltage 600 V
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《电子器件》浏览原始摘要信息
点击此处可从《电子器件》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号