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基于表面等离子体激元的硅基激光器
引用本文:汪毅,周治平.基于表面等离子体激元的硅基激光器[J].激光与光电子学进展,2008,45(2):26-26.
作者姓名:汪毅  周治平
作者单位:1. 华中科技大学,武汉光电国家实验室(筹),湖北,武汉,430074
2. 华中科技大学,武汉光电国家实验室(筹),湖北,武汉,430074;乔治亚理工学院电,子与计算机工程学院,亚特兰大,30332,美国
基金项目:国家重点基础研究发展规划(973计划)
摘    要:研究了一种超薄硅单层与掺铒硅单层/金属薄膜/硅衬底(Si:SiEr/Metal/Si,SEMS)型硅基激光器结构.利用表面等离子体激元局域增强效应提升了硅基增益介质材料在1.54μm波长点的光学增益特性.通过优化金属材料厚度、铒离子极化方向和铒离子位置等参量,减小表面等离子体激元所带来的光学损耗.结果表明,当金属材料厚度小于20 nm时,硅基激光器的净增益系数范围为1~36 cm-1.

关 键 词:表面等离子体激元  增益系数  硅基激光器
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