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正向脉冲占空比对Ni-W-P-CeO2-SiO2纳米复合镀层性能的影响
引用本文:胡双丽,徐瑞东,郭忠诚.正向脉冲占空比对Ni-W-P-CeO2-SiO2纳米复合镀层性能的影响[J].电镀与涂饰,2009,28(1).
作者姓名:胡双丽  徐瑞东  郭忠诚
作者单位:昆明理工大学材料与冶金工程学院,云南,昆明,650093
基金项目:国家自然科学基金,云南省应用基础研究项目,云南省教育厅科学研究基金,昆明理工大学科学研究基金,分析测试重点基金 
摘    要:通过Ni,W、P与CeO2、SiO2纳米颗粒的脉冲共沉积,在普通碳钢表面制备了Ni-W-P-CeO2-SiO2纳米复合镀层.在一定的脉冲频率和平均电流密度下,研究了正向脉冲占空比对纳米复合镀层的化学组成、沉积速率、显微硬度和显微组织的影响.结果表明:增大正向脉冲占空比时,纳米复合镀层的晶粒尺寸增大,沉积速率和显微硬度降低.当正向脉冲占空比控制在10%时,沉积速率最快(为48.6 μm/h),显微硬度最高(为696 HV).纳米复合镀层中的P含量随着正向脉冲占空比的增大而增加,但CeO2、SiO2纳米颗粒及W的含量不断降低,正向脉冲占空比对W的沉积量影响最明显.

关 键 词:碳钢  镍-钨-磷合金  二氧化铈  二氧化硅  纳米复合镀层  脉冲电沉积  沉积速率  显微硬度

Effect of positive pulse duty cycle on properties of Ni-W-P-CeO2SiO2 nanocomposite coating
HU Shuang-li,XU Rui-dong,GUO Zhong-cheng.Effect of positive pulse duty cycle on properties of Ni-W-P-CeO2SiO2 nanocomposite coating[J].Electroplating & Finishing,2009,28(1).
Authors:HU Shuang-li  XU Rui-dong  GUO Zhong-cheng
Abstract:
Keywords:
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