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扫描电位沉积法制备Bi-Pt合金膜及其电催化性能的研究
引用本文:胡向春,袁定胜,刘应亮,杨创涛.扫描电位沉积法制备Bi-Pt合金膜及其电催化性能的研究[J].材料保护,2007,40(6):33-34,57.
作者姓名:胡向春  袁定胜  刘应亮  杨创涛
作者单位:暨南大学化学系纳米化学研究所,广东,广州,510632
基金项目:广东省自然科学基金 , 暨南大学校科研和教改项目
摘    要:采用扫描电位沉积法在-0.8~-1.1 V电势区间内循环扫描,从有机体系中制备得到Bi-Pt合金膜,通过扫描电镜观察,能量色散谱(EDS)和X射线衍射(XRD)分析研究了该膜层的形貌、元素组成及电催化性能.结果表明,电沉积得到的Bi-Pt合金膜均匀而致密,粒径约为20 nm,合金膜由1.06%Pt和98.94%Bi(质量分数)组成;Bi-Pt合金膜对诸如甲醇和NO-2具有良好的电催化性能,这种Bi-Pt电极可能在环境探测上得到应用.

关 键 词:Bi-Pt合金  扫描电位沉积法  电催化性能
文章编号:1001-1560(2007)06-0033-02
修稿时间:2007-02-01

Preparation of Bi-Pt Alloy Film by Sweep Potential Deposition and Electrocatalytic Behavior of the Film
HU Xiang-chun,YUAN Ding-sheng,LIU Ying-liang,YANG Chuang-tao.Preparation of Bi-Pt Alloy Film by Sweep Potential Deposition and Electrocatalytic Behavior of the Film[J].Journal of Materials Protection,2007,40(6):33-34,57.
Authors:HU Xiang-chun  YUAN Ding-sheng  LIU Ying-liang  YANG Chuang-tao
Abstract:
Keywords:
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