| 三价铬电镀铬的工艺研究 |
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| 引用本文： | 吴慧敏,艾佑宏,吴琼.三价铬电镀铬的工艺研究[J].表面技术,2007,36(1):62-64. |
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| 作者姓名： | 吴慧敏 艾佑宏 吴琼 |
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| 作者单位： | 湖北大学化学化工学院,湖北,武汉,430062 |
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| 摘 要： | 通过正交法进行小槽试验和Hull Cell试验,研究了三价铬电镀工艺中的pH值、温度、搅拌、电流密度等工艺条件和参数对镀层的影响.在各不同镀液组成和工艺条件下,充分地分析了镀层的表观形貌,确定了最佳镀液组成和工艺参数:采用了主盐和导电盐均为硫酸盐的全硫酸盐体系的三价铬镀铬;当pH=2～3、Jk=15～45 A/dm2、工作温度=25～45℃时,采取静镀的方法可以得到光亮、致密的合格镀层.
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| 关 键 词： | 三价铬镀铬 工艺参数 铬镀层 电镀 三价铬镀铬 电镀铬 工艺研究 Chromium Plating Study 方法 工作温度 硫酸盐体系 导电盐 主盐 工艺参数 最佳 表观形貌 分析 镀液组成 影响 镀层 工艺条件 电流密度 电镀工艺 |
| 文章编号： | 1001-3660（2007）01-0062-03 |
| 收稿时间： | 2006/10/21 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2006-10-21 |
The Technical Study on Chromium Plating for Trivalent Chromium |
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| WU Hui-min,AI You-hong and WU Qiong.The Technical Study on Chromium Plating for Trivalent Chromium[J].Surface Technology,2007,36(1):62-64. |
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| Authors: | WU Hui-min AI You-hong and WU Qiong |
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| Affiliation: | College of Chemistry and Chemical Industry, Hubei University, Wuhan 430062, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Trivalent chromium Parameter Coating Electrodeposition |
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