| 倒置摆的有效势与晶体摆动场辐射的稳定性 |
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| 引用本文： | 李广明. 倒置摆的有效势与晶体摆动场辐射的稳定性[J]. 半导体光电, 2015, 36(5): 741-745 |
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| 作者姓名： | 李广明 |
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| 作者单位： | 东莞理工学院计算机学院,广东东莞,523808 |
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| 摘 要： | 在经典力学框架内,把粒子的运动方程化为倒置摆方程.在线性近似下,分别用参数变易法和LP方法讨论了无阻尼情况下系统的一阶不稳定区.在非线性近似下,用有效势分析了系统的稳定性,并对普通摆和倒置摆进行了统一描述.结果表明,系统的稳定性与阻尼有关,阻尼越大稳定性越好;指出了普通摆描述的沟道粒子的运动行为,系统的平衡位置过支点垂直向下;倒置摆描述了带电粒子在周期弯晶中的准沟道行为,平衡状态过支点垂直向上.
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| 关 键 词： | 晶体摆动场辐射 有效势 倒置摆 |
| 收稿时间： | 2015-02-02 |
Effective Potential Of Inverted Pendulum And Stability Of Crystalline Undulator Radiation |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | crystalline undulator radiation effective potential inverted pendulum |
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