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| SiGe／Si多量子阱中垂直方向红外吸收及共振色散效应 | |
| 作者姓名： | 吴兰 |
| 作者单位： | 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江,杭州,310027 |
| 基金项目： | 国家教育部留学回国人员科研启动基金资助项目~~ |
| 摘 要： | 用垂直入射的中红外光束调制非掺杂SiGe/Si量子阱中光致子带间吸收,氩离子激光器作为子带间跃迁的光泵浦源在阱中产生载流子,红外调制光谱用步进式傅立叶变换光谱仪记录,实验中观察到明显的层间干涉效应与子带间跃迁有关的色散效应,理论和实验分析认为样品折射率变化造成的位相调制可以补偿吸收所造成的幅度调制。 |
| 关 键 词： | SiGe／Si多量子阱 红外吸收 硅锗多量子阱 垂直方向子带间吸收 色散效应 光致吸收 共振吸收 |
| 收稿时间： | 2001-04-02 |
| 修稿时间： | 2001-04-02 |
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