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粉末溅射金属氧化物气敏薄膜和元件Ⅰ. 粉末溅射金属氧化物气敏薄膜
引用本文:田芳,郭晓丽,张颖欣,王倩,裘南畹.粉末溅射金属氧化物气敏薄膜和元件Ⅰ. 粉末溅射金属氧化物气敏薄膜[J].山东大学学报(工学版),2008,38(5):99-101.
作者姓名:田芳  郭晓丽  张颖欣  王倩  裘南畹
作者单位:1. 山东大学化学与化工学院,山东,济南,250100
2. 济南半导体实验所,山东,济南,250100
3. 山东大学物理学院,山东,济南,250100
基金项目:国家自然科学基金资助项目(60372030); 山东省火炬计划资助项目(111600/04040214)
摘    要:利用反溅,发展了粉末溅射工艺;指出了粉末溅射对研制稳定的薄膜气敏元件的重要性;给出了粉末掺杂比与薄膜掺杂比关系的实验结果;给出了SnO2(100~x)/CeO2(x)最佳灵敏度的掺杂x%的范围;给出了灵敏度随膜厚变化的特征,以及一些薄膜的最佳膜厚lx的数值;给出了响应时间随膜厚变化的规律.

关 键 词:粉末溅射  最佳膜厚  响应时间
收稿时间:2008-04-12
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